EUV級別正式官宣！日企剛發(fā)聲，中企就發(fā)起沖擊

EUV
 ，已經(jīng)成為突破高端芯片繞不開的話題。由于出口限制
，EUV光刻機(jī)我們只能自己去突破 。而要自主造出高端芯片，還有一項也要突破，那就是EUV級別的光刻膠 。

一個是設(shè)備，一個是材料 ，兩個都是高端芯片制造必不可少的關(guān)鍵，都被外企壟斷 ，都需要自主突破 。然而 ，光刻膠巨頭近日指出我們做不出EUV，于是中企發(fā)起沖擊。

日企光刻膠巨頭發(fā)聲

據(jù)外媒消息，日本一家光刻膠企業(yè)叫JSR
，其CEO在接受采訪時表示，我們很難掌握EUV極紫外光刻的復(fù)雜芯片制造技術(shù)。這意思主要是，我們很難造成EUV光刻機(jī)。

還表示 ，即使我們拿到了關(guān)于化學(xué)成分細(xì)節(jié)的論文 ，在純度 、精度和大規(guī)模量產(chǎn)方面也很難成功做出 。這說的基本上就是光刻膠了，并且應(yīng)該指的是先進(jìn)的EUV光刻膠
。

這位CEO算是行業(yè)內(nèi)有一定地位的人士，但他的這些觀點似乎還是有點太片面了。

要實現(xiàn)高端芯片制造，主要就是要解決芯片制造技術(shù)、設(shè)備和材料這三方面問題。

首先 ，要突破芯片制造技術(shù) 。我們芯片制造技術(shù)最先進(jìn)的就是中芯國際，因為有芯片大佬梁孟松的加入 ，僅用三年多時間就完成了28nm到7nm五個世代的技術(shù)研發(fā)。

目前 ，中芯已經(jīng)量產(chǎn)了28nm、14nm、12 nm和N+1等工藝 ，7nm技術(shù)開發(fā)已經(jīng)完成，5 nm和3 nm技術(shù)開展已展開，就差EUV光刻機(jī)到來，可見技術(shù)不是問題。

感谢您访问我们的网站，您可能还对以下资源感兴趣：